半导体四氟特氟龙烘箱
主要参数：
温度范围：室温+30℃~250℃（可任意调节）
加热能耗：升温状态全功率输出，恒温状态低功率输出，低耗节能。
温控方式：采用PID微电脑烘箱专用温控系统，操作简单，控温可靠。
结构特性：双层钢板箱体（冷轧外壳+SUS不锈钢内胆）
热风方式：双风道热风循环加热（SUS不锈钢循环风道结构）
欢迎电话咨询—工业烘箱、隧道炉所有尺寸、要求均可按需定制！
咨询电话：130-6376-6993
电 话：0512-63333691
主要用途
专为半导体、光伏新能源腐蚀工况设计，特氟龙内胆杜绝酸碱腐蚀与金属污染：
1.光伏 PECVD 石墨舟、石墨框酸洗漂洗后恒温脱水烘干，去除表面残留；
2.半导体硅片、碳化硅晶圆、氮化镓衬底清洗后洁净干燥，消除表面水汽、微量化学溶剂；
3.芯片元器件、半导体载具、陶瓷基座封装前除湿固化，避免水汽造成漏电、短路缺陷；
4.光刻胶辅料、半导体绝缘材料恒温烘烤，蜂窝匀风保证受热均匀，无局部固化不良；
5.电子精密半导体零部件酸洗后防腐烘干，适配芯片厂、光伏电池片产线批量连续生产。
使用建议
1.酸洗后工件控干药液再入炉，避免高浓度酸液长期腐蚀特氟龙涂层；
2.烘干挥发酸性气体时全开顶部排气阀，定期更换过滤滤芯保证洁净度；
3.每月清理蜂窝均风板表面酸碱结晶、粉尘，防止风道堵塞造成温差变大；
4.温度严格遵循半导体工艺标准，设定温度≥环境温度 + 25℃；
5.长期停机保持箱内干燥通风，避免残留酸碱水汽侵蚀涂层。
常用规格表：（尺寸可根据客户要求定制）
常用规格表：（尺寸可根据客户要求定制） 型 号 工作室尺寸（mm） 温度范围（℃） 电 源 BE100808-200 高1000宽800深800 室温~200℃ 室温~300℃ 室温~400℃ AC380V 50Hz 三相五线 BE151210-200 高1500宽1200深1000 BE151510-200 高1500宽1500深1000 BE152010-200 高1500宽2000深1000 BE151515-200 高1500宽1500深1500 BE151520-200 高1500宽1500深2000 BE202020-200 高2000宽2000深2000 BE202030-200 高2000宽2000深3000常用规格表：（尺寸可根据客户要求定制） 型 号 工作室尺寸（mm） 温度范围（℃） 电 源 BE100808-200 高1000宽800深800 室温~200℃ 室温~300℃ 室温~400℃ AC380V 50Hz 三相五线 BE151210-200 高1500宽1200深1000 BE151510-200 高1500宽1500深1000 BE152010-200 高1500宽2000深1000 BE151515-200 高1500宽1500深1500 BE151520-200 高1500宽1500深2000 BE202020-200 高2000宽2000深2000 BE202030-200 高2000宽2000深300常用规格表：（尺寸可根据客户要求定制）
| 型 号 | 工作室尺寸（mm） | 温度范围（℃） | 电 源 |
| BC100808-200 | 高1000宽800深800 | 室温~200℃ 室温~300℃ 室温~400℃ | AC380V 50Hz 三相五线 |
| BC151210-200 | 高1500宽1200深1000 | ||
| BC151510-200 | 高1500宽1500深1000 | ||
| BC152010-200 | 高1500宽2000深1000 | ||
| BC151515-200 | 高1500宽1500深1500 | ||
| BC151520-200 | 高1500宽1500深2000 | ||
| BC202020-200 | 高2000宽2000深2000 | ||
| BC202030-200 | 高2000宽2000深3000 |
